崗位職責(zé):
1、負(fù)責(zé)新型存儲(chǔ)器研發(fā)所需的先進(jìn)光刻工藝研發(fā);
2、依據(jù)研發(fā)需求,制定光刻工藝的研發(fā)計(jì)劃,建立并優(yōu)化工藝條件,保障整體研發(fā)進(jìn)度;
3、依據(jù)工藝整合的需求,制定相關(guān)工藝規(guī)格,對(duì)工藝中存在的課題進(jìn)行攻關(guān),拓展工藝窗口,提升產(chǎn)品良率及性能;
4、對(duì)存儲(chǔ)器先進(jìn)工藝前期預(yù)研,確定光刻技術(shù)路線。探索前沿光刻領(lǐng)域技術(shù)進(jìn)展,研究多種光刻工藝方案,持續(xù)推進(jìn)存儲(chǔ)器產(chǎn)線光刻工藝的進(jìn)步;
5、引入和評(píng)估驗(yàn)證新材料、新機(jī)臺(tái)、新功能,并降低工藝成本;
6、分析數(shù)據(jù)并總結(jié)和匯報(bào)研發(fā)進(jìn)展,撰寫(xiě)相關(guān)論文和申請(qǐng)專(zhuān)利。
任職要求:
1.物理/光學(xué)/化工/微電子/材料等理工類(lèi)相關(guān)專(zhuān)業(yè)碩士及以上學(xué)歷;
2.兩年以上邏輯或存儲(chǔ)半導(dǎo)體行業(yè)工作經(jīng)驗(yàn),有研發(fā)工作經(jīng)歷優(yōu)先;
3.熟悉半導(dǎo)體工藝流程與光刻工藝。熟悉光刻工藝中的工藝窗口優(yōu)化,光學(xué)臨近效應(yīng)修正,線寬和套刻的控制與改進(jìn),光阻的評(píng)估與驗(yàn)證;
4.較強(qiáng)的溝通表達(dá)能力、組織協(xié)調(diào)能力和團(tuán)隊(duì)合作精神。流暢的英文閱讀和寫(xiě)作能力;
5.有期刊論文及專(zhuān)利申請(qǐng)經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先。
6. 該崗位需要長(zhǎng)期在安徽合肥出差,一年中有半年以上的時(shí)間會(huì)在合肥,其他時(shí)間在北京。五險(xiǎn)一金繳納在北京。在合肥出差期間食宿公司承擔(dān)。